装置

一部公開中

主な装置

超高真空蒸着装置（日本真空）

電子銃２基（ビーテック）による高融点物質の同時蒸着が可能．
現在は超伝導アモルファスMoxSi1-x超薄膜を作成している．

希釈冷凍機（OXFORD）［共通装置］

T>10mK；冷却能力100μW (@0.1K)

左下のピットには１５−１７ Ｔの超伝導磁石が入っている．

・極低温蒸着装置（自作）

4.2 Kにおける超伝導超薄膜の低温蒸着とその場での（T>0.5K、B<6Tにおける）電子輸送現象測定が可能．

・簡易型ヘリウム3冷凍機×２台（自作）

・水晶マイクロバランス実験用ヘリウム４冷凍機（自作）

　 4.2 Kにおけるアルカリ金属の蒸着と、その場での吸着ヘリウム原子の質量・粘性測定を行う．

・超伝導磁石

7 T（自作）, 8 T（自作）
9T（OXFORD）, 9-11 T（OXFORD）
15-17 T（OXFORD）［共通装置］

2,000 mの超伝導線を巻き終え、8 Tの超伝導磁石が完成した。

測定関係

・電気抵抗、ホール抵抗、トンネル抵抗（DC、ロックインアンプ、ACブリッジ）

・複素交流インピーダンス（高周波ロックインアンプ）

f<10 MHz、V>1 nV

・交流磁化率（微小ドライブ・ピックアップコイル系；ロックインアンプ、ACブリッジ）

・電圧ノイズスペクトラム（FFTアナライザー、高周波スペクトラム・インピーダンス・ネットワークアナライザー、および較正用ランダムノイズジェネレーター）

0.1 Hz<f<100 kHzおよび100 kHz<f< 500 MHz、 SV>10-20 V2/Hz

・シリコンバイブレーティングリード（ロックインアンプ、電流アンプ）

f〜1-10 kHz（磁束系の粘性測定用)

・水晶マイクロバランス（高周波ロックインアンプ）

f〜1-20 MHz（吸着ヘリウム原子の超流動、粘性測定用）

　 実験室の風景

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Okuma Lab, Tokyo Institute of Technology